半導體制程廠區與設備環境 AMC 監測解決方案

方(fang)案概述
在人工智(zhi)能和高效能運算需(xu)求的(de)推動下(xia)(xia)，在第四(si)代(dai)半導體材料與芯粒技術(shu)的(de)發展下(xia)(xia)， 芯片線寬(kuan)已(yi)由 70nm 迅(xun)速進入 7nm 以(yi)下(xia)(xia)時(shi)代(dai)。30nm 以(yi)下(xia)(xia)的(de)生產過程中，痕量氣態分 子(zi)污染物（AMC）檢(jian)測的(de)重要(yao)性，已(yi)上(shang)升(sheng)到前所未有的(de)高度。
AMC 監測的(de)(de)(de)痕量(liang)精(jing)準化、監測全面化、大數據自動分析化，AI 智能(neng)管(guan)控化理(li)念的(de)(de)(de)引 入，對降低 AMC 造成的(de)(de)(de)良率沖擊，起到(dao)至關重要的(de)(de)(de)作用(yong)。
北京博賽德(de)科技(ji)有(you)限公司自主研(yan)發生產的(de) BCT-AMC系(xi)(xi)列，半導體制(zhi)程環境(jing)監(jian)測(ce)系(xi)(xi)統， 涵蓋(gai)在(zai)線監(jian)測(ce)、實驗室分(fen)析(xi)(xi)、機臺現(xian)場溯源分(fen)析(xi)(xi)等多(duo)(duo)個場景的(de)，更多(duo)(duo)有(you)機物物種(zhong)的(de)精確 全定量分(fen)析(xi)(xi)，分(fen)析(xi)(xi)過程高度自動化與(yu)(yu)集成化，配(pei)合專(zhuan)用的(de) AMC 污染(ran)數據庫(ku)與(yu)(yu)處置(zhi)方案庫(ku)， 在(zai) AI 技(ji)術的(de)加持下，真正解(jie)決品管部與(yu)(yu)微污染(ran)控制(zhi)部的(de)切(qie)實問(wen)題(ti)。
 
典(dian)型場景(jing)


 
1、制程點 - 在線自動化(hua) AMC（VOCs）精準分(fen)析系統

生產監(jian)測點(dian)布點(dian)在線監(jian)測：
• 使用超(chao)凈 PFA 采樣管進行廠區布(bu)點，監測范圍可達 35000m2~75000m2
• 自(zi)動采樣(yang)、濃縮、GC-MS 分析、云(yun)端存儲、AI 自(zi)動生成(cheng)檢測報告(gao)，并(bing)帶有(you)超(chao)閾報警功能
• 7×24 小時排程自動(dong)化監測
• 全(quan)流程全(quan)部件惰性化涂覆(fu)，避免殘留與(yu)吸附
• 專利設(she)計的捕集系統與聚焦系統，大幅(fu)提升檢(jian)出線，峰形更銳利
 
2、疑似點 - 實(shi)驗室(shi) AMC（VOCs）精準(zhun)分(fen)析系(xi)統

疑似點手工采樣實驗室分析：
• 系統用(yong)(yong)于實(shi)驗室中，基于捕集能(neng)力強(qiang)、去除雜質能(neng)力強(qiang)、抗吸附(fu)能(neng)力強(qiang)、進樣精確度高、各氣路(lu)專用(yong)(yong)、全流(liu)程無冷點、清(qing)洗(xi)徹底(di)等特點，共同作用(yong)(yong)，得到更(geng)低(di)的檢出限
• 未知成分分析定量：系(xi)統可對樣本進(jin)行物(wu)質全分析
• 專(zhuan)為半導體企業開發(fa)的 AMC（VOCs）物質檢測方法(fa)包
• 檢測時效性強：快速(su)定性定量污(wu)染(ran)(ran)物質(zhi)，及(ji)時發掘 AMC（VOCs）污(wu)染(ran)(ran)源(yuan)頭
 
晶圓(yuan)石英加熱爐，加熱揮(hui)發進樣：
• 專為(wei)半導(dao)體企業開(kai)發的(de) AMC（VOCs）物質檢測方法包
• 檢測時效性(xing)強(qiang)：快速(su)定(ding)性(xing)定(ding)量污(wu)染(ran)物(wu)質(zhi)，及時發(fa)掘 AMC（VOCs）污(wu)染(ran)源頭

3、工作臺 - 便攜式 AMC（VOCs）精準分析系統

工作臺 - 污染溯源分析：
• 分析快速
      單(dan)質(zhi)譜走航模式，儀(yi)器(qi)不經過色譜柱直接進(jin)入質(zhi)譜，秒級(ji)分析(xi)，實時出具數據。
• 靈敏度高
      針(zhen)對(dui)性(xing)溯源(yuan)，靈敏度更高：單(dan)質譜模式(shi)(shi)，秒級響(xiang)應，實時動態顯示污染情況， 必要(yao)時可篩選離子使(shi)用(yong) SIM 模式(shi)(shi)開展針(zhen)對(dui)性(xing)走航。
      膜進樣技(ji)術使得樣品進入質譜前可以進行(xing)二次富集，提(ti)高靈(ling)敏度
• 溯源精準
      全新(xin)走航模式，深(shen)入車間，直指(zhi)源頭
       相對傳統走航設備(bei)質(zhi)量更(geng)輕、抗震性更(geng)強，在傳統走航的(de)(de)基礎上可進(jin)一步進(jin)入車(che)間，精準(zhun)溯源至污(wu)染(ran)產生工藝點(dian)位(wei)，幫(bang)助企業實現污(wu)染(ran)點(dian)的(de)(de)治理。
• 結果準確(que)
       ; 雙重工(gong)作(zuo)模式(shi)：走(zou)航模式(shi) +GC-MS 定點(dian)分析模式(shi)
        使用(yong) 70eV EI 源 + 四級桿質譜定(ding)性定(ding)量(liang)，充分電離空(kong)氣中的 VOCs，依托標(biao)準(zhun) NIST 譜庫，準(zhun)確定(ding)性；國標(biao)加持，結果與實驗(yan)室(shi)可(ke)比。
• 環境適用(yong)性強
     非(fei)機械泵真空系統，環境適用性更強
     摒棄(qi)高(gao)速旋轉組件，采用非機械真空泵，解決多維大幅振(zhen)動中無(wu)法運行檢測等問題。
數據結果與檢測譜圖

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