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接上篇繼續介紹，半導體制程廠區與設備環境 AMC 監測解決方案，三種模式方案介紹。

1、制程點 - 在線自動化 AMC（VOCs）精準分析系統

生產(chan)監測點(dian)布點(dian)在線(xian)監測： 

• 使用超(chao)凈(jing) PFA 采樣管(guan)進行廠區布點，監(jian)測范(fan)圍(wei)可達 35000m2~75000m2

• 自動(dong)采(cai)樣、濃縮、GC-MS 分(fen)析、云端存儲(chu)、AI 自動(dong)生成檢(jian)測報(bao)告，并(bing)帶(dai)有超閾報(bao)警功(gong)能

• 7×24 小(xiao)時(shi)排程(cheng)自(zi)動(dong)化監測(ce)

• 全流程全部件惰性化涂(tu)覆，避免殘(can)留(liu)與吸附

• 專利(li)設計的捕集系統與聚焦系統，大(da)幅提升檢出線，峰形更銳利(li)

2、疑似點 - 實驗室 AMC（VOCs）精準分析系統

疑似點手工采樣實驗室分析：

• 系統用于實驗室中(zhong)，基(ji)于捕(bu)集能(neng)力強、去除雜質能(neng)力強、抗吸附能(neng)力強、進樣精確(que)度高(gao)、各(ge)氣路專用、全流程無冷點(dian)、清洗徹(che)底等特(te)點(dian)，共同作用，得(de)到更(geng)低的檢(jian)出(chu)限

• 未知(zhi)成分分析定量：系(xi)統(tong)可對樣本進行物質全分析

• 專為半導體企業開發的 AMC（VOCs）物(wu)質檢測(ce)方法包

• 檢測(ce)時效性(xing)強：快速定(ding)性(xing)定(ding)量污染(ran)物(wu)質，及時發掘 AMC（VOCs）污染(ran)源(yuan)頭

晶圓石英加熱(re)爐(lu)，加熱(re)揮發進樣：

• 專為半(ban)導體企(qi)業開發的(de) AMC（VOCs）物質檢測方法(fa)包

• 檢測時效性強：快速定(ding)性定(ding)量污染(ran)物質，及時發掘 AMC（VOCs）污染(ran)源(yuan)頭(tou)

3、工作臺 - 便攜式 AMC（VOCs）精準分析系統

工(gong)作臺 - 污染溯源分析：

• 分(fen)析快速

      單質譜(pu)走航模式，儀器不經過色譜(pu)柱直(zhi)接進入質譜(pu)，秒級(ji)分析，實時出具數據(ju)。

• 靈敏度高

      針對(dui)性溯(su)源，靈敏度更高：單質譜模(mo)式(shi)，秒級響應，實時(shi)動態(tai)顯示污染情況， 必要時(shi)可(ke)篩選(xuan)離子使用 SIM 模(mo)式(shi)開展針對(dui)性走航(hang)。

      膜進樣技術使得樣品進入質譜前可以進行(xing)二(er)次富集，提高靈敏度

• 溯(su)源(yuan)精準

      全新走航模(mo)式，深入車間，直指(zhi)源頭(tou)

       相對傳(chuan)統走航設(she)備質量更輕、抗(kang)震性更強，在傳(chuan)統走航的基礎(chu)上可進(jin)一(yi)步進(jin)入車間，精準溯(su)源至污染(ran)產生工藝點位，幫助(zhu)企業實現污染(ran)點的治理。

• 結果準確

        雙重工作模式(shi)：走航模式(shi) +GC-MS 定點(dian)分(fen)析模式(shi)

        使(shi)用 70eV EI 源 + 四級(ji)桿質譜定性(xing)定量，充分電(dian)離(li)空(kong)氣(qi)中的 VOCs，依托標準(zhun) NIST 譜庫，準(zhun)確定性(xing)；國(guo)標加持，結果與實驗室(shi)可比。

• 環境適(shi)用性強

     非機械(xie)泵(beng)真空系統，環境(jing)適(shi)用性更強

     摒(bing)棄(qi)高速旋轉組件，采用(yong)非機械真空泵，解決多維大(da)幅振(zhen)動中(zhong)無法運行檢測(ce)等問題(ti)。

未完待續，詳見 下一篇 半導體制程廠區與設備環境 AMC 監測解決方案（三） 服務優勢介紹。